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真空蒸鍍原理將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發成氣態鋁。氣態鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經冷卻還原即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。
鍍鋁膜的鍍鋁層發生遷移現象的原因及解決方法
一.鍍鋁膜的鍍鋁層發生遷移現象的原因：
1.所選用的膠粘劑不合適。
2.鍍鋁層與基膜之間的結合牢固度比較差。
3.張力控制不當，影響到鍍鋁膜鍍鋁層的附著力，進而產生鍍鋁層遷移。
二．相對應的解決辦法：
1.選擇合適的鍍鋁膜膠粘劑。
2.選擇質量高的鍍鋁膜，例如廣盈牌鍍鋁膜。
3.對張力進行適當的設置調整，一般來說，張力應大一些，防止鍍鋁膜發生較大的彈性形變。
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